Verfahren zur Herstellung eines synthetischen Quarzglassubstrats auf Elektronikniveau
EP2399707
Art B1
22. Februar 2017
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2399707
- Aktenzeichen
- EP11171429
- Anmeldetag
- 27. Juni 2011
- Veröffentlichung
- 22. Februar 2017
- Erteilung
- 22. Februar 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B24B7/24C03C15/02B24B19/03B24B7/22
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Vertreten von
Stoner, Gerard Patrick
London, Großbritannien
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