Plasmaverarbeitungsvorrichtung
EP2408275
Art B1
11. Januar 2017
Anmelder: EMD Corporation, Tokyo Electron Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2408275
- Aktenzeichen
- EP10750873
- Anmeldetag
- 10. März 2010
- Veröffentlichung
- 11. Januar 2017
- Erteilung
- 11. Januar 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H05H1/46C23C16/505H01L21/205H01L21/3065H01J37/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- EMD Corporation
Tokyo Electron Limited - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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