Zu verarbeitendes Substrat mit darauf laminierter Resistschicht für die Elektronenstrahlenlithographie und organisch leitender Schicht, Verfahren zur Herstellung des Substrats und Resiststrukturierungsverfahren
EP2410379
Art B1
26. Juli 2017
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2410379
- Aktenzeichen
- EP11005204
- Anmeldetag
- 27. Juni 2011
- Veröffentlichung
- 26. Juli 2017
- Erteilung
- 26. Juli 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20H01J37/317G03F7/09G03F1/78
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Kanzlei
Wuesthoff & Wuesthoff
München, Deutschland
Wuesthoff & Wuesthoff wurde 1927 in Berlin von Dr. Franz und Dr. Freda Wuesthoff gegründet, die erste deutsche Patentanwältin, und zog 1949 nach München. Schwerpunkte liegen in Biotechnologie und Life Sciences, beraten wird auch auf Chinesisch, Koreanisch und Japanisch.
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