Zu verarbeitendes Substrat mit darauf laminierter Resistschicht für die Elektronenstrahlenlithographie und organisch leitender Schicht, Verfahren zur Herstellung des Substrats und Resiststrukturierungsverfahren

EP2410379 Art B1 26. Juli 2017

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2410379
Aktenzeichen
EP11005204
Anmeldetag
27. Juni 2011
Veröffentlichung
26. Juli 2017
Erteilung
26. Juli 2017
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20H01J37/317G03F7/09G03F1/78
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Kanzlei
Wuesthoff & Wuesthoff München, Deutschland

Wuesthoff & Wuesthoff wurde 1927 in Berlin von Dr. Franz und Dr. Freda Wuesthoff gegründet, die erste deutsche Patentanwältin, und zog 1949 nach München. Schwerpunkte liegen in Biotechnologie und Life Sciences, beraten wird auch auf Chinesisch, Koreanisch und Japanisch.

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