Sputtering-Target aus einem Gesinterten Ti-Nb-Oxid-Körper, Ti-Nb-Oxid-Dünnschicht und Verfahren zur Herstellung der Dünnschicht

EP2412844 Art A1 1. Februar 2012

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2412844
Aktenzeichen
EP10756208
Anmeldetag
26. März 2010
Veröffentlichung
1. Februar 2012
Rechtsraum
EP
IPC
C23C14/34C04B35/46G11B7/24G11B7/254G11B7/257G11B7/26
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
Vertreten von
Bond, Christopher William München, Deutschland
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Fachgebiete
24
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Medizintechnik & Gesundheit Organische Chemie Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Verfahrens- & Trenntechnik Anorganische Chemie & Werkstoffe
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