Gegenüber Aktinischer Strahlung Empfindliche Bzw. Strahlungsempfindliche Harzzusammensetzung und Strukturbildungsverfahren damit

EP2414896 Art B1 11. November 2020

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2414896
Aktenzeichen
EP10758878
Anmeldetag
26. März 2010
Veröffentlichung
11. November 2020
Erteilung
11. November 2020
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/004C07C381/12C07D217/08C07D285/00C07D333/16C08F20/10G03F7/039G03F7/38H01L21/027G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
FUJIFILM Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie
Vertreten von
Siegert, Georg München, Deutschland
434
Patente gesamt
33
Fachgebiete
22
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Medizintechnik & Gesundheit Halbleiter & Elektrische Bauelemente Nachrichtentechnik & Telekommunikation Optik & Fototechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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