Verfahren zur Substratverarbeitung
Anmelder: Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc., Varian Semiconductor Equipment Associates 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2417622
- Aktenzeichen
- EP10762436
- Anmeldetag
- 8. April 2010
- Veröffentlichung
- 15. Februar 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/266H01L31/18H01J37/317
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.
Varian Semiconductor Equipment Associates - Land
- 🇺🇸 USA
Varian Semiconductor Equipment Associates war ein US-amerikanischer Hersteller von Halbleiteranlagen, seit 2011 Teil von Applied Materials. Die Patente betreffen Ionenimplantation und Halbleiterfertigung.
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Fachgebiete
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