Verfahren zum molekularen Adhäsionsbonden bei geringem Druck

EP2418678 Art B1 15. Oktober 2014

Anmelder: Soitec, S.O.I. Tec Silicon on Insulator Technologies 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2418678
Aktenzeichen
EP11173513
Anmeldetag
12. Juli 2011
Veröffentlichung
15. Oktober 2014
Erteilung
15. Oktober 2014
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/762H01L21/68H01L21/67
Offizieller Volltext

Abstract

Method for molecular adhesion bonding between at least a first wafer (20) and a second wafer (30) comprising at least a step of mechanical alignment, a step of bringing the two wafers (20, 30) in contact and a step of initiating the propagation of a bonding wave between the two wafers. During the steps of mechanical alignment and bringing the two wafers in contact, the wafers are placed in an environment at a first pressure (P1) greater than or equal to a predetermined pressure threshold value. During the step of initiating the propagation of a bonding wave, the wafers (20, 30) are placed in an environment at a second pressure (P2) less than the said predetermined pressure threshold value.

Anmelder

Firmen
Soitec
S.O.I. Tec Silicon on Insulator Technologies
Land
🇫🇷 Frankreich
🇫🇷 Soitec

Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.

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