Spiegel für den Euv-Wellenlängenbereich, Projektionsobjektiv für die Mikrolithografie mit einem Solchen Spiegel und Projektionsbelichtungsvorrichtung für die Mikrolithografie mit einem Solchen Projektionsobjektiv

EP2419769 Art A1 22. Februar 2012

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2419769
Aktenzeichen: EP10711370
Anmeldetag: 19. März 2010
Veröffentlichung: 22. Februar 2012
Rechtsraum: EP
IPC: G02B5/08G21K1/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

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