Elektrode zur Behandlung einer Entladungsoberfläche und Herstellungsverfahren dafür

EP2420594 Art B1 25. Februar 2015

Anmelder: IHI Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2420594
Aktenzeichen
EP10764449
Anmeldetag
13. April 2010
Veröffentlichung
25. Februar 2015
Erteilung
25. Februar 2015
Rechtsraum
EP
IPC
B22F1/00B22F9/02C23C26/00C22C33/02C22C19/07B23H1/06B22F9/08C22C38/30
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
IHI Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 IHI Corporation

Japanischer Industriekonzern mit Sitz in Tokio, tätig in den Bereichen Schwermaschinenbau, Luft- und Raumfahrttriebwerke sowie Anlagenbau.

1.709 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen