Dampfablagerungsvorrichtung und Dampfablagerungsverfahren
EP2423349
Art A1
29. Februar 2012
Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2423349
- Aktenzeichen
- EP10767084
- Anmeldetag
- 21. April 2010
- Veröffentlichung
- 29. Februar 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/24H01L51/50H05B33/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Electron Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
2.414 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Manitz, Gerhart
München, Deutschland
241
Patente gesamt
30
Fachgebiete
18
Anmelder-Länder
Schwerpunkte