Herstellungsverfahren für Gebundene Wafer
EP2426697
Art B1
29. November 2017
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2426697
- Aktenzeichen
- EP10769820
- Anmeldetag
- 30. April 2010
- Veröffentlichung
- 29. November 2017
- Erteilung
- 29. November 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/67H01L21/762
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Fachgebiete
Kanzlei
Cabinet Didier Martin
Limonest, Frankreich
Sitz in Limonest bei Lyon, bewusst an das industrielle Erbe der Region angelehnt. Das mehrsprachige Team aus Ingenieuren und einer Anwältin wurde von Leaders League wiederholt als „highly recommended“ für die französische Patentpraxis ausgezeichnet.
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