Verfahren und System zur Ausrichtung eines Verfolgungsstrahls und Hochenergie-Laserstrahl
EP2427719
Art B1
1. Mai 2013
Anmelder: Raytheon Company 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2427719
- Aktenzeichen
- EP10709602
- Anmeldetag
- 3. März 2010
- Veröffentlichung
- 1. Mai 2013
- Erteilung
- 1. Mai 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- F41H13/00G01S7/481
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Raytheon Company
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Raytheon Company
US-amerikanisches Rüstungs- und Technologieunternehmen mit Sitz in Massachusetts, heute Teil von RTX Corporation. Entwickelt Verteidigungssysteme, Radartechnik, Flugabwehr, Sensorik und Luftfahrtelektronik.
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Jackson, Richard Eric
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