Hochenergie-Laserstrahlausrichtungssystem und -Verfahren

EP2427783 Art B1 4. Januar 2017

Anmelder: Raytheon Company 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2427783
Aktenzeichen
EP10760468
Anmeldetag
3. März 2010
Veröffentlichung
4. Januar 2017
Erteilung
4. Januar 2017
Rechtsraum
EP
IPC
G01S7/481G01S17/66G02B26/08F41H13/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Raytheon Company
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Raytheon Company

US-amerikanisches Rüstungs- und Technologieunternehmen mit Sitz in Massachusetts, heute Teil von RTX Corporation. Entwickelt Verteidigungssysteme, Radartechnik, Flugabwehr, Sensorik und Luftfahrtelektronik.

3.397 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen