Polymerverbindung, Photoresistzusammensetzung mit solch einer Polymerverbindung und Verfahren zur Bildung von Resistmustern
EP2433972
Art B1
12. November 2014
Anmelder: Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2433972
- Aktenzeichen
- EP11191858
- Anmeldetag
- 28. Januar 2005
- Veröffentlichung
- 12. November 2014
- Erteilung
- 12. November 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C08F16/26C08F12/04
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
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Hart-Davis, Jason
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