Gatestapel-Struktur für eine Halbleiter-Flash-Speichervorrichtung und Herstellungsverfahren dafür
Anmelder: Fudan University 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2442364
- Aktenzeichen
- EP11789049
- Anmeldetag
- 24. Mai 2011
- Veröffentlichung
- 18. April 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L29/49H01L21/285H01L27/115H01L29/423H01L29/66H01L29/792B82Y10/00C23C16/40C23C16/455H01L21/28
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Fudan University
- Land
- 🇨🇳 China
Die Fudan University ist eine chinesische Eliteuniversität mit Sitz in Shanghai und breiter Forschung in Medizin und Chemie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Medizintechnik und Gesundheit sowie organische Chemie, ergänzt durch Pharma und Halbleitertechnik. Anmeldungen erstrecken sich von 2000 bis 2025.
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