Gatestapel-Struktur für eine Halbleiter-Flash-Speichervorrichtung und Herstellungsverfahren dafür

EP2442364 Art A1 18. April 2012

Anmelder: Fudan University 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2442364
Aktenzeichen
EP11789049
Anmeldetag
24. Mai 2011
Veröffentlichung
18. April 2012
Rechtsraum
EP
IPC
H01L29/49H01L21/285H01L27/115H01L29/423H01L29/66H01L29/792B82Y10/00C23C16/40C23C16/455H01L21/28
Offizieller Volltext

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Anmelder

Firma
Fudan University
Land
🇨🇳 China
🇨🇳 Fudan University

Die Fudan University ist eine chinesische Eliteuniversität mit Sitz in Shanghai und breiter Forschung in Medizin und Chemie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Medizintechnik und Gesundheit sowie organische Chemie, ergänzt durch Pharma und Halbleitertechnik. Anmeldungen erstrecken sich von 2000 bis 2025.

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