Verfahren zur Herstellung von Siliciumcarbid

EP2444372 Art B1 23. Oktober 2013

Anmelder: National Institute for Materials Science, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2444372
Aktenzeichen: EP12151818
Anmeldetag: 22. Dezember 2008
Veröffentlichung: 23. Oktober 2013
Erteilung: 23. Oktober 2013
Rechtsraum: EP
IPC: C01B31/36C04B35/571C04B35/565C04B35/632C04B35/626

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: National Institute for Materials Science
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National Institute for Materials Science

Japanisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Tsukuba, das auf Materialwissenschaft und Werkstoffforschung spezialisiert ist.

828 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

1.545 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe

Vertreten von