Gasabgabestruktur, Vorrichtung und Verfahren zur Plasmaverarbeitung
EP2444521
Art A1
25. April 2012
Anmelder: Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2444521
- Aktenzeichen
- EP10789345
- Anmeldetag
- 24. Mai 2010
- Veröffentlichung
- 25. April 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C16/44B01J3/02H01L21/3065
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Heavy Industries, Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Heavy Industries
Japanischer Industriekonzern, der in Bereichen wie Energieerzeugung, Luft- und Raumfahrt, Schiffbau, Maschinenbau und Klimatechnik tätig ist und ein breites Spektrum an Industrieanlagen und -maschinen herstellt.
5.548 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Wiedemann, Peter
München, Deutschland
391
Patente gesamt
32
Fachgebiete
20
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München