Musterherstellungsverfahren, Verfahren zur Herstellung einer MEMS-Struktur, Verwendung eines gehärteten Films aus lichtempfindlicher Harzzusammensetzung als Opferschicht oder als Komponente einer MEMS-Struktur

EP2447773 Art B1 10. Juli 2013

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2447773
Aktenzeichen: EP11187262
Anmeldetag: 31. Oktober 2011
Veröffentlichung: 10. Juli 2013
Erteilung: 10. Juli 2013
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/039G03F7/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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