Resistunterschichtzusammensetzung und Strukturierungsverfahren, das diese einsetzt
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2447775
- Aktenzeichen
- EP11008594
- Anmeldetag
- 26. Oktober 2011
- Veröffentlichung
- 29. Mai 2013
- Erteilung
- 29. Mai 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/09
Abstract
There is disclosed a resist underlayer film composition, wherein the composition contains a polymer obtained by condensation of, at least, one or more compounds represented by the following general formula (1-1) and/or (1-2), and one or more kinds of compounds and/or equivalent bodies thereof represented by the following general formula (2). There can be provided an underlayer film composition, especially for a trilayer resist process, that can form an underlayer film having reduced reflectance, namely, an underlayer film having optimum n-value and k-value, excellent filling-up properties, high pattern-antibending properties, and not causing line fall or wiggling after etching especially in a high aspect line that is thinner than 60 nm, and a patterning process using the same. <img class="EMIRef" id="465384594-ia01" /> X-CHO (2)
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Fachgebiete
Wuesthoff & Wuesthoff wurde 1927 in Berlin von Dr. Franz und Dr. Freda Wuesthoff gegründet, die erste deutsche Patentanwältin, und zog 1949 nach München. Schwerpunkte liegen in Biotechnologie und Life Sciences, beraten wird auch auf Chinesisch, Koreanisch und Japanisch.