Verfahren zur Herstellung einer Magnetischen Dünnschicht

EP2447965 Art B1 15. Januar 2020

Anmelder: The University of Tokyo, Dowa Electronics Materials Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2447965
Aktenzeichen: EP10792171
Anmeldetag: 24. Juni 2010
Veröffentlichung: 15. Januar 2020
Erteilung: 15. Januar 2020
Rechtsraum: EP
IPC: H01F10/22H01F41/16H01F41/24C01G49/00C01G49/06C09D5/38C09D7/61G11B5/706G11B5/845// C08K3/22

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: The University of Tokyo
Dowa Electronics Materials Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 University of Tokyo

Japanische Universität mit Sitz in Tokio, eine der führenden Forschungsuniversitäten Asiens. Die Universität ist in nahezu allen wissenschaftlichen und technischen Disziplinen aktiv, darunter Materialwissenschaften, Elektrotechnik, Biotechnologie und Medizin.

2.129 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Anorganische Chemie & Werkstoffe Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik

Vertreten von