Kristalline Siliciumschicht auf einem Substrat, Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung
Anmelder: Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V., Albert-Ludwigs-Universität Freiburg, Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Wissenschaft E.V. 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2449578
- Aktenzeichen
- EP10732651
- Anmeldetag
- 29. Juni 2010
- Veröffentlichung
- 9. Mai 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
Albert-Ludwigs-Universität Freiburg
Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Wissenschaft E.V. - Land
- 🇩🇪 Deutschland
Deutsche gemeinnützige Forschungsorganisation mit Sitz in München. Betreibt anwendungsorientierte Forschung in Technik und Naturwissenschaften über zahlreiche Institute für Industrie und Gesellschaft.
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Deutsche Universität in Freiburg im Breisgau mit Forschung und Lehre in zahlreichen Fachbereichen, darunter Naturwissenschaften, Medizin und Mikrosystemtechnik.
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