Verfahren zur Plasmaverarbeitung

EP2451991 Art B1 3. Juli 2019

Anmelder: Aixtron SE, Plasmasi, Inc. 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2451991
Aktenzeichen
EP10797882
Anmeldetag
8. Juli 2010
Veröffentlichung
3. Juli 2019
Erteilung
3. Juli 2019
Rechtsraum
EP
IPC
C23C16/505C23F1/00H05H1/24B05D1/36C23C16/24C23C16/34C23C16/40C23C16/44C23C16/455C23C16/50C23C16/503H01J37/32H01L21/67C23C16/46C23C16/54C23C16/26
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Aixtron SE
Plasmasi, Inc.
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Aixtron

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

303 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik
Vertreten von
Grundmann, Dirk Rieder & Partner mbB Wuppertal, Deutschland
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Patente gesamt
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Fachgebiete
15
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik Hochbau & Gebäudetechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Verfahrens- & Trenntechnik
Zum Anwaltsprofil
Kanzlei
Rieder & Partner mbB Wuppertal, Deutschland

Die Wuppertaler Kanzlei geht auf Johannes Rieder zurück, der schon vor dem ersten deutschen Patentanwaltsgesetz von 1900 als Berater für Erfinder tätig war. Mit über hundertjähriger Kontinuität am Standort zählt sie zu den traditionsreichsten Patentanwaltspraxen im Bergischen Land.

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Patente gesamt
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Patentanwälte
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