Spiegel für Euv-Wellenlängenbereich, Schutzobjektiv für Mikrolithografie mit Derartigem Spiegel und Projektionsbelichtungsgerät für Mikrolithografie mit einem Derartigen Projektionsobjektiv

EP2452229 Art A1 16. Mai 2012

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2452229
Aktenzeichen: EP10722700
Anmeldetag: 1. Juni 2010
Veröffentlichung: 16. Mai 2012
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20G02B5/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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