Basenreaktive Fotosäuregeneratoren und diese enthaltende Fotoresiste

EP2452932 Art A2 16. Mai 2012

Anmelder: Rohm and Haas Electronic Materials LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2452932
Aktenzeichen
EP11189108
Anmeldetag
15. November 2011
Veröffentlichung
16. Mai 2012
Rechtsraum
EP
IPC
C07C309/06C07C309/17C07C381/12C07C57/60C07D333/46G03F7/004G03F7/038G03F7/039
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Rohm and Haas Electronic Materials LLC
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Rohm and Haas

Ehemaliger US-amerikanischer Spezialchemiekonzern mit Sitz in Philadelphia, unter anderem für Kunststoffe, Beschichtungen und Elektronikchemikalien bekannt. Wurde 2009 von Dow Chemical übernommen.

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