Verfahren zur Bildung einer versenkten dielektrischen Schicht unter einer Halbleiterlamelle

EP2455967 Art B1 23. Mai 2018

Anmelder: IMEC VZW, IMEC 🇧🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2455967
Aktenzeichen: EP11152112
Anmeldetag: 25. Januar 2011
Veröffentlichung: 23. Mai 2018
Erteilung: 23. Mai 2018
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/762H01L27/11521H01L21/8234

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: IMEC VZW
IMEC
Land: 🇧🇪 Belgien

🇧🇪 imec

Imec ist ein belgisches Forschungszentrum mit Sitz in Leuven, das auf Nanoelektronik, Halbleitertechnologie und digitale Technologien spezialisiert ist.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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