Basische Verbindung, chemisch verstärkte Resistzusammensetzung und Musterungsverfahren
EP2463714
Art B1
28. August 2013
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2463714
- Aktenzeichen
- EP11191784
- Anmeldetag
- 2. Dezember 2011
- Veröffentlichung
- 28. August 2013
- Erteilung
- 28. August 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/004G03F7/038G03F7/039C07D215/38C07D239/28
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Fachgebiete
Vertreten von
Stoner, Gerard Patrick
London, Großbritannien
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