Verfahren mit geringem Anpressdruck bei Raumtemperatur
EP2464203
Art A1
13. Juni 2012
Anmelder: Raytheon Company 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2464203
- Aktenzeichen
- EP11183979
- Anmeldetag
- 5. Oktober 2011
- Veröffentlichung
- 13. Juni 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H05K3/46
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Raytheon Company
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Raytheon Company
US-amerikanisches Rüstungs- und Technologieunternehmen mit Sitz in Massachusetts, heute Teil von RTX Corporation. Entwickelt Verteidigungssysteme, Radartechnik, Flugabwehr, Sensorik und Luftfahrtelektronik.
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Fachgebiete
Vertreten von
Luoto, Kristian Reinhold
Helsinki, Finnland
41
Patente gesamt
17
Fachgebiete
5
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
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Arvela, Sakari Mikael
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Cabinet Camus Lebkiri · Paris