Lithographische Vorrichtung und Verfahren

EP2465012 Art B1 12. Dezember 2012

Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2465012
Aktenzeichen: EP11709702
Anmeldetag: 17. März 2011
Veröffentlichung: 12. Dezember 2012
Erteilung: 12. Dezember 2012
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20G21K1/06G03F1/00G02B5/20G02B5/08C01B31/04

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands BV
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML Netherlands

ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

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