Verfahren zur direkten Bindung von Halbleiterstrukturen und gebundene Halbleiterstrukturen, die mit diesen Verfahren gebildet werden

EP2466632 Art A3 4. Juli 2012

Anmelder: Soitec 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2466632
Aktenzeichen
EP11193906
Anmeldetag
16. Dezember 2011
Veröffentlichung
4. Juli 2012
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/60H01L23/485
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Soitec
Land
🇫🇷 Frankreich
🇫🇷 Soitec

Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.

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