Substrate und Spiegel für Euv-Mikrolithografie und Herstellungsverfahren dafür
EP2467756
Art A1
27. Juni 2012
Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2467756
- Aktenzeichen
- EP10732968
- Anmeldetag
- 14. Juli 2010
- Veröffentlichung
- 27. Juni 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G02B1/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Carl Zeiss SMT GmbH
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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Fachgebiete
Vertreten von
Kohl, Alexander
Oberkochen, Deutschland
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