Gegenüber Aktinischer Strahlung Empfindliche Bzw. Strahlungsempfindliche Harzzusammensetzung, Resistfilm damit und Strukturbildungsverfahren damit
EP2470957
Art A1
4. Juli 2012
Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2470957
- Aktenzeichen
- EP10811784
- Anmeldetag
- 17. August 2010
- Veröffentlichung
- 4. Juli 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/004C08F20/10G03F7/039H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJIFILM Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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Vertreten von
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Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München