Zusammensetzungen mit basisch-reaktiven Komponenten und Verfahren für Fotolithografie
EP2472320
Art A2
4. Juli 2012
Anmelder: Rohm and Haas Electronic Materials LLC 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2472320
- Aktenzeichen
- EP11195275
- Anmeldetag
- 22. Dezember 2011
- Veröffentlichung
- 4. Juli 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/004G03F7/30
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Rohm and Haas Electronic Materials LLC
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Rohm and Haas
Ehemaliger US-amerikanischer Spezialchemiekonzern mit Sitz in Philadelphia, unter anderem für Kunststoffe, Beschichtungen und Elektronikchemikalien bekannt. Wurde 2009 von Dow Chemical übernommen.
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Vertreten von
Buckley, Guy Julian
Bakewell, Großbritannien
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