Monomere, Polymere, Photoresistzusammensetzungen und Verfahren zur Bildung von photolithographischen Strukturen
EP2472324
Art A1
4. Juli 2012
Anmelder: Rohm and Haas Electronic Materials LLC, Dow Global Technologies LLC 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2472324
- Aktenzeichen
- EP11195165
- Anmeldetag
- 23. Dezember 2011
- Veröffentlichung
- 4. Juli 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/038C07C69/734C08F220/28
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Rohm and Haas Electronic Materials LLC
Dow Global Technologies LLC - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Rohm and Haas
Ehemaliger US-amerikanischer Spezialchemiekonzern mit Sitz in Philadelphia, unter anderem für Kunststoffe, Beschichtungen und Elektronikchemikalien bekannt. Wurde 2009 von Dow Chemical übernommen.
2.601 Patente in unserer Datenbank
🇺🇸
Dow Global Technologies
US-amerikanisches Tochterunternehmen des Chemiekonzerns Dow, das geistiges Eigentum verwaltet und Patente aus Forschung zu Kunststoffen, Chemikalien und Materialwissenschaften der Dow-Gruppe hält.
6.384 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Buckley, Guy Julian
Bakewell, Großbritannien
4.077
Patente gesamt
34
Fachgebiete
23
Anmelder-Länder
Schwerpunkte