Trockenreinigungsverfahren einer Substratverarbeitungsvorrichtung

EP2476777 Art A1 18. Juli 2012

Anmelder: Tokyo Electron Limited, Central Glass Company, Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2476777
Aktenzeichen: EP12151362
Anmeldetag: 17. Januar 2012
Veröffentlichung: 18. Juli 2012
Rechtsraum: EP
IPC: C23C16/44

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Tokyo Electron Limited
Central Glass Company, Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Central Glass

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Flachglas, Spezialglas sowie Fluorchemikalien für Industrie und Bauwesen herstellt.

805 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von