Strahlungsempfindliche Harzzusammensetzung, Verfahren zur Bildung einer Resiststruktur, Polymer und Polymerisierbare Verbindung
EP2479614
Art B1
24. Juli 2019
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2479614
- Aktenzeichen
- EP10817289
- Anmeldetag
- 17. September 2010
- Veröffentlichung
- 24. Juli 2019
- Erteilung
- 24. Juli 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/039C08F20/26G03F7/004H01L21/027G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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