Filmerzeugungsvorrichtung

EP2479780 Art A1 25. Juli 2012

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2479780
Aktenzeichen: EP10817040
Anmeldetag: 30. August 2010
Veröffentlichung: 25. Juli 2012
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/205C23C16/50H01L31/04C23C16/44C23C16/455C23C16/452H01J37/32C23C16/509

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von