Vorrichtung und Verfahren zur Plasmaverarbeitung

EP2479783 Art B1 12. Dezember 2018

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2479783
Aktenzeichen: EP12159427
Anmeldetag: 21. Juni 2005
Veröffentlichung: 12. Dezember 2018
Erteilung: 12. Dezember 2018
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/3065H01J37/32

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von