Optische Beleuchtungseinheit für Mikrolithografie

EP2483720 Art B1 17. Juni 2015

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2483720
Aktenzeichen
EP10765402
Anmeldetag
27. September 2010
Veröffentlichung
17. Juni 2015
Erteilung
17. Juni 2015
Rechtsraum
EP
IPC
G02B27/09G21K1/06G02B5/30G21K1/16G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Carl Zeiss SMT GmbH
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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