Lpp-Euv-Lichtquellenantriebslasersystem
EP2488002
Art B1
4. Mai 2016
Anmelder: ASML Netherlands B.V., ASML Netherlands BV, Cymer, LLC, Cymer, Inc. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2488002
- Aktenzeichen
- EP12158455
- Anmeldetag
- 27. Juni 2006
- Veröffentlichung
- 4. Mai 2016
- Erteilung
- 4. Mai 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H05G2/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands B.V.
ASML Netherlands BV
Cymer, LLC
Cymer, Inc. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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