Substrathalter, lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines Substrathalters
EP2490073
Art B1
23. September 2015
Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2490073
- Aktenzeichen
- EP12151380
- Anmeldetag
- 17. Januar 2012
- Veröffentlichung
- 23. September 2015
- Erteilung
- 23. September 2015
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands BV
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML Netherlands
ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.
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Fachgebiete
Vertreten von
Dung, Shiang-Lung
Veldhoven, Niederlande
20
Patente gesamt
6
Fachgebiete
1
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Schwerpunkte