Verfahren zur Bildung von III-V-Halbleitermaterialien und durch solche Verfahren gebildete Halbleiterstrukturen

EP2495358 Art A1 5. September 2012

Anmelder: Soitec 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2495358
Aktenzeichen
EP12157798
Anmeldetag
1. März 2012
Veröffentlichung
5. September 2012
Rechtsraum
EP
IPC
C30B25/16C30B25/18C30B29/40
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Soitec
Land
🇫🇷 Frankreich
🇫🇷 Soitec

Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.

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