Resiststruktur, Verfahren zur Herstellung des Strukturs, Verfahren zur Herstellung einer MEMS-Struktur, Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung, und Verfahren zur Herstellung eines plattierten Strukturs

EP2498133 Art A3 10. Juli 2013

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2498133
Aktenzeichen: EP12158216
Anmeldetag: 6. März 2012
Veröffentlichung: 10. Juli 2013
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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