Verfahren zum Formen einer Ge-auf-III/V-auf-Isolator-Struktur

EP2498295 Art A1 12. September 2012

Anmelder: Soitec 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2498295
Aktenzeichen
EP12158842
Anmeldetag
9. März 2012
Veröffentlichung
12. September 2012
Rechtsraum
EP
IPC
H01L29/786H01L21/20H01L21/762H01L29/66
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Soitec
Land
🇫🇷 Frankreich
🇫🇷 Soitec

Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.

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