Chemisch-Mechanische Reinigungsflüssigkeit sowie Verfahren zur Herstellung eines Halbleitersubstrats und Reinigungsverfahren mit Dieser Reinigungsflüssigkeit
EP2500928
Art A1
19. September 2012
Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2500928
- Aktenzeichen
- EP10829776
- Anmeldetag
- 14. September 2010
- Veröffentlichung
- 19. September 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/3105B24B37/04C09K3/14
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hitachi Chemical Company, Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi Chemical
Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München