Ätzflüssigkeit zur Ätzung einer Siliciumsubstrat-Rückseite durch ein Siliciumdurchgangsverfahren und Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterchips mit einem Siliciumdurchgangspfad Mithilfe der Ätzflüssigkeit

EP2500930 Art A1 19. September 2012

Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2500930
Aktenzeichen: EP10828383
Anmeldetag: 8. November 2010
Veröffentlichung: 19. September 2012
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/306H01L21/768H01L23/48

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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