Verfahren zur Herstellung Dotierter Siliciumschichten, nach dem Verfahren Erhältliche Siliciumschichten und Ihre Verwendung
EP2502262
Art A1
26. September 2012
Anmelder: Evonik Degussa GmbH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2502262
- Aktenzeichen
- EP10776681
- Anmeldetag
- 10. November 2010
- Veröffentlichung
- 26. September 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/228H01L21/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Evonik Degussa GmbH
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Evonik
Deutscher Spezialchemiekonzern mit Sitz in Essen. Entwickelt und produziert Chemikalien, Additive und Materialien für Industrie, Gesundheit, Ernährung und Konsumgüter.
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