Verfahren zur Untersuchung von Defekten, Defektuntersuchung bei Wafern oder mit dem Wafer Hergestellten Halbleiterbauelementen, Qualitätskontrollverfahren für Wafer oder Halbleiterbauelement und Vorrichtung zur Defektuntersuchung

EP2503326 Art A1 26. September 2012

Anmelder: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2503326
Aktenzeichen: EP10831671
Anmeldetag: 19. November 2010
Veröffentlichung: 26. September 2012
Rechtsraum: EP
IPC: G01N21/95H01L21/66G01L1/24G01N21/21

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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