Verfahren zur Herstellung eines Basissubstrats für einen Halbleiter auf einem Isoliersubstrat

EP2503592 Art A1 26. September 2012

Anmelder: Soitec 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2503592
Aktenzeichen
EP12160793
Anmeldetag
22. März 2012
Veröffentlichung
26. September 2012
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/762
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Soitec
Land
🇫🇷 Frankreich
🇫🇷 Soitec

Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.

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