Sputtering-Target aus einem Magnetischen Material
EP2511397
Art B1
26. September 2018
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2511397
- Aktenzeichen
- EP10835782
- Anmeldetag
- 21. Oktober 2010
- Veröffentlichung
- 26. September 2018
- Erteilung
- 26. September 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34C22C19/03C22C19/07C22C38/00G11B5/851C22C38/08C22C38/10H01F41/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JX Nippon Mining & Metals Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
1.069 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Hoarton, Lloyd Douglas Charles
München, Deutschland
1.651
Patente gesamt
34
Fachgebiete
27
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Schwerpunkte