Mit einer Reflektierenden Schicht Ausgestattetes Substrat für die Euv-Lithographie, Reflektierender Maskenrohling für die Euv-Lithographie, Reflektierende Maske für die Euv-Lithographie und Verfahren zur Herstellung des mit einer Reflektierenden Schicht Ausgestatteten Substrats
EP2511944
Art A1
17. Oktober 2012
Anmelder: Asahi Glass Company, Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2511944
- Aktenzeichen
- EP10836043
- Anmeldetag
- 9. Dezember 2010
- Veröffentlichung
- 17. Oktober 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B82Y40/00G02B5/08G03F1/24G03F7/20B82Y10/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Asahi Glass Company, Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
AGC (Asahi Glass)
Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
Hoffmanns, Ulrich
München, Deutschland
8
Patente gesamt
7
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1
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-
Müller-Boré & Partner Patentanwälte PartG mbB
Müller-Boré & Partner Patentanwälte PartG mbB · München